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1200℃管式炉CVD系统广泛适用于高、中、低温CVD工艺，如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等；也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理.
SGM 1200℃管式炉CVD系统专门设计用于高温材料沉积之用。1200℃管式炉CVD系统具有温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动小、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点。
1、1200℃管式采用优质电炉丝加热。
2、炉管为刚玉炉管炉膛,
3、可预抽真空,便于通入参加反应的气体,进口单回路智能温度控制仪控制、温区设计隔板结构。
4、管式炉有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。
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